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    TF1000-200HV-T10

    產(chǎn)品類(lèi)別:TF真空管式爐

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
    該設備主要用于半導體芯片、集成電路芯片、探測器芯片、激光器芯片、金屬濺射薄膜壓敏芯片、紅外成像芯片、非制冷紅外熱成像芯片、氣體傳感器芯片、半導體電容式指紋辨識芯片、功率半導體器件、高性能硅基輻射探測器的高真空低溫封裝工藝。

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    詳細介紹

    額定溫度:1200℃

    工作尺寸:200*400mm

    真空度:6*10-5Pa

    該設備主要用于半導體芯片、集成電路芯片、探測器芯片、激光器芯片、金屬濺射薄膜壓敏芯片、紅外成像芯片、非制冷紅外熱成像芯片、氣體傳感器芯片、半導體電容式指紋辨識芯片、功率半導體器件、高性能硅基輻射探測器的高真空低溫封裝工藝。

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